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eView/eVC /eSpec Series 电子束缺陷复检设备|武汉精测 (在产)

eView Series电子束(e-beam)晶圆缺陷检查和晶圆分类系统可捕获缺陷的高分辨率图像,从而准确表示晶圆上的缺陷群。采用了新开发的电子光学成像和信号检测技术。它具备快速成像和超高电子束成像能力,低能电子束分辨率低至1.4纳米,每小时可采集多达6000张缺陷图像,适用于先进制程。其独特的多视
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武汉精测 武汉精测电子集团股份有限公司
eView/eVC /eSpec Series 电子束缺陷复检设备
晶圆量测/检测系统 · 晶圆检测系统
产品简介
eView Series电子束(e-beam)晶圆缺陷检查和晶圆分类系统可捕获缺陷的高分辨率图像,从而准确表示晶圆上的缺陷群。采用了新开发的电子光学成像和信号检测技术。它具备快速成像和超高电子束成像能力,低能电子束分辨率低至1.4纳米,每小时可采集多达6000张缺陷图像,适用于先进制程。其独特的多视角成像检测技术和高深宽比特征分析能力,为用户提供了更多的样品信息。它配备了基于深度学习的高精度智能在线自动缺陷识别(ADR)和分类(ADC)算法,API模式可实现对热点缺陷的自主检测。可选的深紫外暗场模式提高了裸晶圆缺陷的定位精度和检测率。凭借先进的成像技术和强大的分析工具,eView能够快速、高效、准确地完成缺陷检测、复查和分类,为半导体晶圆制程监控和良率提升提供了有效的解决方案。
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